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5” & 4” Top-Loading 此曝光機對位系統可以說是曝光對準機中最重要的機件之一，它提供了光罩及基材（晶圓）之間之精密共平面之 Z 軸及 X 、 Y 、θ 軸的相對位置調整。
AG M&R 光罩 (AG M&R Mask)；基材(晶圓)平台 (Substrate Stage)
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| X軸、Y軸、8軸的調整機構可選配昇級為 joystick 可改善操作效率。 |
配合精密的光學尺、步進馬達，所以能達到全自動的 Z 軸 (光罩與基材之間的高度控制)。 |
真空基材 (晶圓) 吸附Chucks (Vacuum Substrate Chucks)
可完全配合客戶基板的尺寸及型狀來提供最適當的基材 chuck ，如方形陶瓷、玻璃、 SUS 、及圓形 Si 、 GaN 、 GaAS 、 LiTaO3 ...等的基材，甚至破片亦可。並有兼具多尺寸功能的 chuck （兼具 4" 、 2" 及破片於同一 chuck ，如下圖所示）
真空光罩吸附固定座 (Vacuum Mask Holders)
上吸式(Top-Load) 光罩尺寸* : 2", 3", 4", 5", 6", 7", & 9" 正方
下吸式(Bottom-Load)光罩尺寸* : 2", 3", 4", 5", 6", & 7" 正方
光罩厚度：標準規格 0.060", 0.090", & 0.120" (亦可接受客製化的厚度規格)
光罩固定座可依照客戶的需求訂製 (Custom mask holders available upon request)
5" & 4" Top-Loading
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