首頁 > 半導體/光電黃光設備 > 光阻/顯影液/去光阻/光罩保護層 > NPR-20 Manual

NPR-20  Negative Photoresist  負光阻

 使用特性:
1. 液態樹脂,塗布時密著性優良,膠膜機械強度佳。
2. 樹脂膠膜在酸性蝕刻液中,抗蝕性良好;可耐高溫 > 150℃。
3. 可以DS-10顯影與S-100剝膜,使用方便 (溶液均不會腐蝕鋁等金屬層)。

 塗佈方式:旋轉塗佈【1300 rpm→3 - 4 um】 (膜厚均勻性佳)。

 適當軟烤溫度:65-85℃;時間:5-10分鐘。

 曝光量:45-120 mj/cm2依基片反光度而定。

 曝光後靜置:溫度:室溫;時間:5-15分鐘。

 顯影及剝膜方式:
1. 稀釋顯影液DS-10 (1;4 or 1:9) 顯影以及用S-100 or DS-10 原液剝膜。 (顯影液與剝膜液不會腐蝕鋁等金屬層)。
2. 顯影與剝膜時間:1.5-10分鐘;需DI Water Rinse Cycles。

 相關物理化學性質: