無光罩雷射直寫曝光機

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無光罩曝光機

商品編號:Maskless Laser Direct Imaging System(LDI)

無光罩雷射直寫曝光機

無光罩雷射直寫曝光機可用於半導體主被動元件、光電顯示器、背光模組上,也可用於其他太陽能電池、LED等產品的製程。

無光罩雷射直寫曝光機是集機械、電子光學、電氣、真空、計算機技術等於一體的精密半導體加工設備。利用聚焦電子束對有機聚合物進行曝光,受電子束輻照區域的光刻膠,化學性質會產生變化,形成良溶或非良溶區域,由此在抗蝕劑上形成精細圖形。

科毅科技的無光罩雷射直寫曝光機可提供快速及精確的產品製程,應用範圍相當廣泛,從TFT、MEMS、半導體構裝、各式元件、光罩…等,非常適合半導體業晶圓生產及學術研究之需求。

應用範圍:

1) 觸控面板、2) 印刷電路板、3) 半導體、4) 光罩製作、5) R&D

曝光機 無光罩曝光機

優點分析:

1) 無光罩使用、2) 線寬/線距解析度最小1um、3) 圖案邊緣平順

曝光機

 

LDI機台規格表
Item
量產型
線寬 / 線距解析度
5um/5um
圖案能力
灰階效果&3D圖形
光源
LED 405nm波長
產能
在650mm X 650mm 範圍內:
9片8”晶圓、
4片12”晶圓、
169片2”晶圓,
→50mj/cm2小於60秒
基板尺寸
最大900mm X 1500mm
資料格式
可使用的檔案格式:
Autocad:DXF or PCB
Protel、ORCAD:Gerber
對位精度
小於 ± 3um

 

無光罩(掩模)雷射直寫曝光機 曝光機供應商

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