設備名稱：化學清洗/顯影/蝕刻台
產品編號：WBS
客製化承製
手動、半自動、全自動多槽化學台
設備名稱：Hot N2櫃
產品編號：HNS-N2
機台尺寸：474x370x938/mm 適合於2-6 wafer 外 殼：PP 控制方式：PLC 漏電斷路保護裝置 HEATER過溫保護 晶片吹乾時間短(約3~5分鐘) 晶片吹乾後無殘留水痕 吹破片機率極低 模組化零組件設計，便於維修
